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AuthorBarth, Peterdc.contributor.author
Date of accession2016-03-14T13:39:34Zdc.date.accessioned
Available in OPARU since2016-03-14T13:39:34Zdc.date.available
Year of creation2006dc.date.created
AbstractEine im Vergleich zu EUV und EPL extrem günstige und viel versprechende Methode zur Erzeugung von Nanostrukturen auf der Siliziumoberfläche könnten die µCP-Technik und die von uns in dieser Arbeit vorgestellte modifizierte hochauflösende µCP-Technik darstellen. Mit dieser Methode konnten Monolagen auf Siliziumsubstraten mit bisher unerreichter Kantenschärfe, Homogenität und lateraler Auflösung (ca. 50 nm) erzielt werden. Gegenüber dem derzeitigen Stand der Technik bedeutet dies eine Verkleinerung der mittels modifizierter hochauflösender µCP-Technik hergestellten lateralen Silanstrukturen um den Faktor 20.dc.description.abstract
Languagededc.language.iso
PublisherUniversität Ulmdc.publisher
LicenseStandard (Fassung vom 03.05.2003)dc.rights
Link to license texthttps://oparu.uni-ulm.de/xmlui/license_v1dc.rights.uri
KeywordMikrokontaktdruck-Technikdc.subject
Dewey Decimal GroupDDC 530 / Physicsdc.subject.ddc
LCSHScanning force microscopydc.subject.lcsh
LCSHSilicon. Surfacedc.subject.lcsh
TitleHochauflösende Strukturierung von Siliziumoberflächen mittels Mikrokontaktdruck-Technik untersucht mit Rasterkraftmikroskopiedc.title
Resource typeDissertationdc.type
DOIhttp://dx.doi.org/10.18725/OPARU-473dc.identifier.doi
URNhttp://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:289-vts-57039dc.identifier.urn
GNDMikrokontaktdruckdc.subject.gnd
GNDRasterkraftmikroskopiedc.subject.gnd
GNDSilanedc.subject.gnd
FacultyFakultät für Naturwissenschaftenuulm.affiliationGeneral
Date of activation2006-10-10T22:36:35Zuulm.freischaltungVTS
Peer reviewneinuulm.peerReview
Shelfmark print versionZ: J-H 11.266 ; W: W-H 9.380uulm.shelfmark
DCMI TypeTextuulm.typeDCMI
VTS-ID5703uulm.vtsID
CategoryPublikationenuulm.category
University Bibliographyjauulm.unibibliographie


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