High resolution vacuum scanning thermal microscopy of HfO2 and SiO2
Erstveröffentlichung
2008
Wissenschaftlicher Artikel
Erschienen in
Applied Physics Letters ; 92 (2008), 4. - Art.-Nr. 043122. - ISSN 0003-6951. - eISSN 1077-3118
Link zur Veröffentlichung
https://dx.doi.org/10.1063/1.2840186Fakultäten
Fakultät für NaturwissenschaftenInstitutionen
Institut für Experimentelle PhysikSchlagwörter
[Freie Schlagwörter]: CONDUCTIVITY[DDC Sachgruppe]: DDC 530 / Physics