In-situformation and evolution of atomic defects in monolayer WSe(2)under electron irradiation
Wissenschaftlicher Artikel
Institutionen
ZE ElektronenmikroskopieErschienen in
Nanotechnology ; 31 (2020), 49. - Art.-Nr. 495704. - ISSN 0957-4484. - eISSN 1361-6528
Link zur Veröffentlichung
https://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/abb335Schlagwörter
TMD monolayer; high-resolution transmission electron microscopy; defect engineering; MICROSCOPY; BOUNDARIES; MOS2; SEDDC-Sachgruppe
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