Focused ion beam-assisted fabrication of soft high-aspect ratio silicon nanowire atomic force microscopy probes

Erstveröffentlichung

2017

Autoren

Knittel, Peter

Hibst, Nicolas

Mizaikoff, Boris

Strehle, Steffen

Kranz, Christine

Wissenschaftlicher Artikel

Erschienen in

Ultramicroscopy ; 179 (2017). - S. 24-32. - ISSN 0304-3991. - eISSN 1879-2723

Link zur Veröffentlichung

https://dx.doi.org/10.1016/j.ultramic.2017.03.031

Fakultäten

Fakultät für Ingenieurwissenschaften, Informatik und Psychologie
Fakultät für Naturwissenschaften

Institutionen

Institut für Analytische und Bioanalytische Chemie
Institut für Elektronische Bauelemente und Schaltungen

Schlagwörter

[Freie Schlagwörter]: High-aspect ratio AFM probes | Silicon nanowires | Nanowire alignment | Pt catalyst | Focused ion beam technology | carbon nanotube tips | halide wave-guides | elastic properties | grating couplers | afm probes | nanofabrication | diffraction | deposition | lasers
[DDC Sachgruppe]: DDC 540 / Chemistry & allied sciences | DDC 620 / Engineering & allied operations

Metadata

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